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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
作者：韦亚一 出版：科学出版社 日期：2020-03-01 光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技 ... |
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计算光刻与版图优化
作者：韦亚一 等 著 出版：电子工业出版社 日期：2021-01-01 《计算光刻与版图优化》由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队韦亚一博士、粟雅娟博士、董立松博士、张利斌博士、陈睿博士、赵利俊博士撰写，系统、全面地介绍了集成电 ... |
詳情>> | 售價：NT$ 458
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