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內容簡介： 本书作为光学技术专业的教材，既系统地介绍薄膜光学的基本理论和器件设计的基本方法，又尽可能地介绍新设计方法、新器件设计、新工艺技术。全书共五章，第一章是薄膜光学特性计算基础，第二章介绍介质膜系及其应用，第三章介绍薄膜制造枝术，第四章重点介绍光学薄膜制造工艺，第五章介绍薄膜材料及其性质。附录提供了70余种光学薄膜材料的最新特性参数。本书既可作为光学技术专业大专、本科、研究生的教材，也可作为从事光学薄膜工作的科研、生产人员参考用书。 目錄： 第一章 薄膜光学特性计算基础 　1.1 单一界面的反射率和透射率 　1.2　单层介质膜的反射率 　1.3 多层介质膜的反射率和透射率 　1.4　金属薄膜的光学特性 　1.5　光学零件的反射率和透射率 第二章 介质膜系及其应用 　2.1 减反射膜 　2.2　高反射膜 　2.3　中性分束膜 　2.4　截止滤光片 　2.5　带通滤光片 　2.6　偏振分束膜 　2.7　消偏振膜系 第三章　薄膜制造技术 3.1　光学真空镀膜机 3.2　真空与物理汽相沉积 3.3　真空获得与检测 3.4　热蒸发 3.5　溅射 3.6 离子镀 3.7　离子辅助镀 第四章　光学薄膜制造工艺 　4.1 光学薄膜器件的质量要素 　4.2　影响膜层质量的工艺要素 　4.3　获得精确厚度的方法 　4.4　获得均匀膜层的方法 第五章　薄膜材料及其性质 　5.1　薄膜的微观结构与性质 　5.2　常用光学薄膜材料 附录　常见薄膜材料参数 参考文献

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