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现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程
作者:李艳丽、伍强 出版:清华大学出版社 日期:2024-09-01 本书基于作者团队多年的光刻工艺(包括先进光刻工艺)研发经验,从集成电路工厂的基本结构、半导体芯片制造中常用的控制系统、图表等基本内容出发,依次介绍光刻基础知识,一个6晶体管静态随机存储器的电路结构与3个关键技术节点中SRAM 制造的基本工艺流程,光刻机的发展历史、光刻工艺8步流程、光刻胶以及掩模版类型,光刻工艺标准化与 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 653 ![]() |
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衍射极限附近的光刻工艺
作者:伍强 等 出版:清华大学出版社 日期:2020-02-01 为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作 者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将近 20 年的学习成果和研发经验汇编 成书,建立联系我国集成电路 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 1008 ![]() |
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衍射极限附近的光刻工艺(第2版)
作者:伍强、胡华勇、何伟明、岳力挽、张强、杨东旭、黄怡、李艳丽 出版:清华大学出版社 日期:2024-11-01 为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 1877 ![]() |
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裂(万物皆有裂痕,那是光进来的地方。)
作者:孙频 著 出版:北京联合出版有限公司 日期:2019-01-01 6个关于从坚硬的现实中发现精神微光,获得精神力量的故事。 《自由故》 放弃即将获得的博士学位,吕明月只身前往德令哈,她认为在那里她能找到渴求的自由。生活在退学的那个决定之后快速崩塌,她不过是从一个牢笼逃到另一个牢笼。仿佛在溺死的*后一刻抓住了救生圈,吕明月从王发财的口中终于发现她要的不是自由,而是另外一种东西。 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 271 ![]() |
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