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高端光刻机像质检测技术(下册)
作者:王向朝,戴凤钊 出版:科学出版社 日期:2021-04-01 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统介绍光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术,详细介绍了本团队提出的系列新技术。涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术类型。包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技 ... |
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集成电路与光刻机
作者:王向朝等 出版:科学出版社 日期:2020-08-01 光刻机是集成电路制造的核心装备,直接决定了集成电路的微细化水平。本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程;重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等;简要介绍了计算光刻技术;*后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。 ... |
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高端光刻机像质检测技术(上册)
作者:王向朝等 出版:科学出版社 日期:2021-04-01 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术,详细介绍了本团队提出的系列新技术,涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术,包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技 ... |
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