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內容簡介： 本书为电子、材料以及物理等领域的科学家和工程师更新纳米结构加工的新核心技术。主要内容包括亚25nm图形的光刻技术，纳米尺度精度的沉积技术，纳米尺度的图形刻蚀技术等。本书的亮点不是为了延展微电子制造工艺，而是更多聚焦于可在纳机电系统、生物传感器、纳米材料、光子晶体以及其它新型器件结构等革命性技术领域应用的图形加工技术。

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