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衍射极限附近的光刻工艺（第2版）
作者：伍强、胡华勇、何伟明、岳力挽、张强、杨东旭、黄怡、李艳丽 出版：清华大学出版社 日期：2024-11-01 为了应对我国在集成电路领域，尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面，破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境，作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员，作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任，将为了应对我国在集成电路领域，尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的 ... |
詳情>> | 售價：NT$ 1877 
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