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光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶
作者：[日]関口淳 著 出版：化学工业出版社 日期：2024-04-01 光刻胶是将图形转移到半导体基材上的关键材料之一，他是一个配方产品，由多种组分组成。光刻胶对纯度、杂质含量、固体颗粒等要求非常高，光刻胶的开发需要昂贵的设备、苛刻的环境及特殊专业技能人才。光刻胶的评测项目繁多，但光刻胶企业之间又相互保密。关于光刻胶评价方法的书籍少之又少，由于光刻胶的研究及产业化主要集中在日本、美国，相关 ... |
詳情>> | 售價：NT$ 1010 
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