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微电子工艺原理与技术
作者:田丽,王蔚,刘红梅,任明远 出版:哈尔滨工业大学出版社 日期:2021-08-01 《微电子工艺原理与技术》是哈尔滨工业大学“国家集成电路人才培养基地”教学建设成果,《微电子工艺原理与技术》分5篇,系统地介绍了硅基芯片制造流程中普遍采用的各单项工艺技术的原理、问题、分析方法、主要设备及其技术发展趋势。第1篇硅衬底,主要介绍硅单晶的结构特点,单晶硅锭的拉制及硅片(包含体硅片和外延硅片)的制造工艺及相关理 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 429
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铌酸钠光物理与光催化性能
作者:李国强,闫世成,史海峰 出版:科学出版社 日期:2021-08-01 本书对铌酸钠在半导体光催化领域中的研究进行了系统的讨论,是一本全面介绍铌酸钠在半导体光催化制氢以及环境净化方面的专著,内容取材于作者多年的科研结晶和国际期刊发表的相关结果。本书介绍了铌酸钠常见的制备方法,掺杂和复合改性提高光催化性能的研究结果,以单晶薄膜为研究对象阐述各向异性的光催化性能,利用多晶薄膜和纳米片组装薄膜为 ... |
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材料分析测试技术(刘洪权)
作者:刘洪权 主编 迟静,汪静 副主编 出版:化学工业出版社 日期:2022-03-01 《材料分析测试技术》介绍了材料物相结构、缺陷、形貌、成分分析中有典型代表性的分析测试技术,包括X射线衍射分析(物相晶体结构种类及含量)、电子衍射分析、电子显微分析技术、扫描电镜分析技术、电子探针分析技术、热分析等分析测试方法及应用技术;拓展性地介绍了Rietveld全谱拟合结构精修技术、X射线单晶衍射分析、X射线荧光分 ... |
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六方锰氧化物和铁氧化物单相多铁性材料的电子显微学研究
作者:邓世清 出版:清华大学出版社 日期:2022-03-01 本书聚焦在单相多铁性材料的显微结构、电子结构研究与物性调控方面,以先进电子显微学方法为主,辅之以宏观物性研究以及理论计算和模拟,系统探讨了典型的单相多铁六方锰氧化物和铁氧化物的单晶和薄膜材料中晶格、电荷和自旋的耦合和调控,在一定程度上给出了铁电性(如畴结构和几何铁电性调控)、(反)铁磁性和耦合机制等方面的信息。本书对于 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 505
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低维分子材料与器件
作者:李立强,李荣金,胡文平 出版:科学出版社 日期:2022-05-01 《低维分子材料与器件》为“低维材料与器件丛书”之一,涉及化学、材料学、物理学、电子学、光学等学科。《低维分子材料与器件》共分13章,比较全面地介绍了低维分子材料与器件这一前沿领域的基础知识与重要研究成果。在内容方面,第1章为绪论,概述了低维分子材料的结构特点及应用;第2章介绍了低维分子材料的设计合成方法;第3~7章分别 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 1367
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中红外光学材料及应用技术
作者:阮双琛 等 出版:科学出版社 日期:2022-06-01 中红外波段光学材料与技术在国防、医疗等领域具有重要的应用价值。《中红外光学材料及应用技术》以最为实用的工业技术以及最为前沿的科研成果为题材,系统总结了中红外光源、材料及与之相关的各种应用技术。主要内容包括中红外激光传输光纤、红外光学薄膜、波导、单晶与陶瓷、半导体发光材料、红外窗口材料、金刚石膜与类金刚石膜红外光学应用、 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 1525
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氮化物半导体准范德华外延及应用
作者:魏同波 出版:西安电子科技大学出版社 日期:2022-09-01 本书以第三代半导体与二维材料相结合的产业化应用为目标,详细介绍了二维材料上准范德华外延氮化物的理论计算、材料生长、器件制备和应用,内容集学术性与实用性于一体。全书共8章,内容包括二维材料及准范德华外延原理及应用、二维材料/氮化物准范德华外延界面理论计算、二维材料/氮化物准范德华外延成键成核、单晶衬底上氮化物薄膜准范德华 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 653
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氧化镓半导体器件
作者:龙世兵 出版:西安电子科技大学出版社 日期:2022-09-01 本书主要介绍近几年发展较快的氧化镓半导体器件。氧化镓作为新型的超宽禁带半导体材料,在高耐压功率电子器件、紫外光电探测器件等方面都具有重要的应用前景。本书共分为7章,第1~4章(氧化镓材料部分)介绍了氧化镓半导体材料的基本结构,单晶生长和薄膜外延方法,电学特性,氧化镓材料与金属、其他半导体的接触,氧化镓材料的刻蚀、离子注 ... |
詳情>> | 售價:NT$ 653
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现代物理实验原理与分析仪器 敬超著
作者:敬超 出版:科学出版社 日期:2023-03-01 《现代物理实验原理与分析仪器》系统地介绍了物理和材料研究领域常用的单晶生长和薄膜制备方法,以及用来表征晶体或薄膜结构、显微组织、形貌、成分、价态等方面的分析技术;涵盖了X射线衍射技术、各种电子显微技术、扫描探针技术、能谱技术、表面物理分析技术、核物理方法测试技术和光谱分析技术。并对这些分析技术的基本原理、仪器结构和应用 ... |
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老科学家学术成长资料采集工程丛书-低温王国拓荒人-洪朝生传
作者:秦金哲,冯丰 出版:中国科学技术出版社 日期:2017-05-01 本书是老科学家学术成长资料采集工程第五批图书之一。洪朝生是我国物理学家,中国科学院院士,中国科学院理化技术研究所研究员,中国低温物理与低温技术研究的开创者之一。他发现了半导体锗单晶低温电导与霍耳效应反常现象,并提出杂质能级导电唯象模型,成为 ... |
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有机化合物结构分析 Structural Analysis of Organic Compounds(江仁望)
作者:江仁望 主编 出版:化学工业出版社 日期:2019-05-01 本教材的内容包括前言、紫外光谱、红外光谱、核磁共振、质谱、X-射线单晶衍射、综合解析六部分内容。 本教材采用理论与实例相结合的模式,安排了较多的科研实例。通过本教材的学习,学生可掌握各种波谱方法的原理、应用领域和优缺点,并掌握综合运用多种谱学手段来解析有机化合物分子结构的一般程序。 ... |
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有机薄膜晶体管材料器件和应用
作者:孟鸿,黄维 出版:科学出版社 日期:2018-12-01 本书从有机薄膜晶体管的发展历程、器件结构与原理、材料种类、器件性能及应用等方面对这种新型的有机电子器件作了较全面的论述。重点梳理了作者及国内外同行在有机薄膜晶体管有源层及介电层材料方面的研究成果,涵盖小分子材料、高分子材料、液晶材料、介电材料、材料计算模拟、有机单晶材料的发展与生长方法等。系统阐述了提高有机薄膜晶体管器 ... |
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半导体薄膜技术基础
作者:李晓干 出版:电子工业出版社 日期:2018-01-01 本书对当前主要应用的薄膜技术及相关设备进行了深入浅出的介绍,主要包括作为*重要的半导体衬底的硅单晶材料学、薄膜基础知识、PVD技术、CVD技术及其他相关的薄膜加工技术,在对各种技术进行介绍的同时,还对各种技术所应用的设备进行简要介绍。本书提供配套电子课件。本书作为半导体薄膜技术的入门书籍,既有薄膜技术的基本理论介绍,又 ... |
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声表面波材料与器件
作者:潘峰 出版:科学出版社 日期:2018-07-01 本书系统地介绍了声表面波压电与叉指换能器材料、各种声表面波器件设计及其制备工艺。全书共6章。第1章介绍声表面波技术的原理与发展历程、声表面波器件的特点与应用。第2章介绍声表面波器件用的各类压电材料压电单晶、压电陶资以及压电薄膜的制备、性能与特点,重点介绍氧化钵压电薄膜材料制备与改性。第3章阐述叉指换能器的设计理论与叉指 ... |
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石墨烯技术前沿丛书--石墨烯薄膜制备
作者:李雪松,陈远富,青芳竹 编著 出版:化学工业出版社 日期:2019-06-01 本书根据作者多年的石墨烯薄膜制备经验和研究成果,并结合国内外石墨烯薄膜制备的*研究进展编撰而成。本书主要介绍基于化学气相沉积法的石墨烯薄膜制备技术,首先对石墨烯概念、发展历程和表征进行概括介绍,接着简单介绍化学气相沉积技术,然后系统介绍石墨烯的成核与生长、单晶石墨烯的制备、石墨烯的层数控制,进一步介绍石墨烯薄膜的转移技 ... |
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硅片的超精密磨削理论与技术
作者:郭东明 出版:电子工业出版社 日期:2019-05-01 本书在介绍单晶硅的物理、化学和半导体性质,以及单晶硅片在集成电路制造中的应用和加工要求的基础上,全面系统地阐述了硅片旋转磨削原理、超精密磨削机理、超精密磨削工艺、超精密磨床,完整地总结了著者及其团队十多年来在硅片超精密磨削理论与技术方面的研究成果。全书共9章,其中第1章介绍单晶硅的基本性质与应用,第2章介绍集成电路制造 ... |
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太阳能光伏产业--硅片加工技术(康自卫)
作者:康自卫 出版:化学工业出版社 日期:2019-07-01 本书主要从实际工艺的角度对硅片生产全过程进行了比较系统详细的介绍,包括硅单晶的基本特性和晶体结构,硅片生产设备的种类、性能及其使用方法,硅单晶从滚磨与开方、切割、研磨、抛光、清洗一直到检验包装的整个生产过程与管理,其中针对太阳能硅片的生产有适当的介绍,通过这些介绍,旨在使读者能够对硅片生产有一个全貌的认识,能具备硅片生 ... |
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ZrO2基固体电解质及其应用
作者:刘涛,于景坤 出版:科学出版社 日期:2015-09-23 《ZrO2基固体电解质及其应用》的主要内容包括:晶体缺陷及迁移性质,电极反应动力学的Butler-Volmer方程;固体电解质微观组织结构分析,电导率测量方法和电化学研究方法;稳定的ZrO2基固体电解质材料;多晶、单晶、共晶复合材料和阻抗谱 ... |
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坩埚下降法晶体生长
作者:徐家跃,范世□ 出版:化学工业出版社 日期:2015-03-01 本书对坩埚下降法的历史进行总结回顾,并分章节重点介绍几种功能晶体的生长和应用,其中包括闪烁晶体锗酸铋、硅酸铋及其混晶,四硼酸锂压电晶体生长与应用,卤化物晶体坩埚下降法生长与闪烁性能,钨酸铅闪烁晶体及其在大科学工程中的应用,弛豫铁电单晶生长于 ... |
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直拉硅单晶生长过程建模与控制
作者:刘丁 出版:科学出版社 日期:2015-06-30 《直拉硅单晶生长过程建模与控制》源于作者在直拉硅单晶生长过程建模与控制领域十余年的研究心得与成果积累。 在对硅单晶生长工艺及制备理论进行全面论述的基础上,系统地介绍直拉硅单晶生长的基本原理和工艺过程以及热场?磁场等关键部件的设计理论与方法, ... |
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