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大書城 以“ 精确 模式”搜“ 尹力博 杨之辰 韦亚 ”共有 5 結果: 支援简体 / 繁體 / 正體字輸入搜索
盈利异象及其定价机制:动态视角 盈利异象及其定价机制:动态视角
作者:尹力博杨之韦亚  出版:经济科学出版社  日期:2025-08-01
资产定价是现代金融理论的核心,学术界一直孜孜以求探索资产价格的形成由哪些因素所决定。诸多学者开始关注公司的盈利能力所包含的价格信息,已有研究成果表明,公司的盈利水平是决定股票横截面收益率的重要因素,并提出盈利溢价。近年来中国股票市场开始由传统的核准制逐渐转为注册制,标志着我国资本市场的进一步市场化。虽然注册制不对上市公 ...
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售價:NT$ 449

超大规模集成电路先进光刻理论与应用 超大规模集成电路先进光刻理论与应用
作者:韦亚一  出版:科学出版社  日期:2020-03-01
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工 ...
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售價:NT$ 2154

大宗商品资产战略配置模型研究 大宗商品资产战略配置模型研究
作者:尹力博  出版:经济科学出版社  日期:2017-07-01
本书的理论重点不在于为商品资产进行定价,而在于找出影响商品资产投资收益波动的影响因素。这些因素将会影响到商品资产配置的决策,而资产配置的好坏将直接关系到国际投资风险收益的大小。因此本研究将从国际影响因素和国内经济转型的特征出发,重点考虑新增 ...
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售價:NT$ 281

计算光刻与版图优化 计算光刻与版图优化
作者:韦亚一 等 著  出版:电子工业出版社  日期:2021-01-01
光刻是集成电路制造的核心技术,光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中,只有光刻工艺可以在硅片上产生图形,从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型,计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化,对掩模上图形 ...
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售價:NT$ 458

基于随机规划模型的国际资产战略配置研究 基于随机规划模型的国际资产战略配置研究
作者:尹力博  出版:经济科学出版社  日期:2017-04-01
本书深入解读了国际资产配置的战略性目标:传统国际金融资产的长期稳定收益。为此,本书从有重点地阐述和论证国际资产战略配置的指导思想和运作策略,提出了基于多阶段*规划的国际资产动态配置的解决方案。为实现国家外汇储备和主权财富基金的保值增值,在战 ...
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售價:NT$ 346

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