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光刻技术（原著第二版） 光刻技术（原著第二版）
作者：林本坚 著　　出版：化学工业出版社　　日期：2024-08-01
本书详细介绍了半导体芯片制造中的核心技术——光刻技术。主要内容包括驱动光学光刻的基本方程和参数的相关知识、曝光系统和成像基础理论、光刻系统组件、工艺和优化技术等；深入分析了光刻技术的发展前景，详述了浸没式光刻与极紫外（EUV）光刻。本书（第二版）特别融合了作者在研究、教学以及世界级大批量制造方面的独特经验，增加了关于接 ...		 詳情>>
售價：NT$ 1010

>>> （頁碼:1/1　行數:20/1） 1  

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